Еліпсометрія ультратонких плівкових структур /
Р.О. Влох, А.М. Коструба. – Львів : Інститут фізичної оптики ім. О.Г. Влоха,
2017. – 294 с.
Монографію присвячено розробці нових принципів еліпсометрії і еліпсометричних методів вимірювання параметрів ультратонких поверхневих шарів з товщиною меншою 20 нм. На основі встановлених закономірностей еліпсометричного відгуку вирішено проблему незалежного визначення параметрів ультратонких прозорих плівкових структур в умовах сильного кореляційного зв’язку між цими параметрами, що дозволило суттєво підвищити точність отримуваного результату. Запропонована методика розрахунку середньоквадратичної похибки параметрів поглинаючої плівки, яка дозволяє об’єднати аналіз чутливості еліпсометричних вимірювань із кореляційним аналізом та спрощує процедуру оптимізації умов еліпсометричного експерименту. Для наукових та інженерно-технічних
працівників, аспірантів та студентів фізичних спеціальностей вищих навчальних
закладів.
|
|